Selfie Project Peel-Off Maskers#Shine Like A Star

The Selfie Project Purifying Peel-Off Mask #Shine Like A Star verwent de huid en verheldert de teint. Het is verrijkt met zuiverende ingrediënten zoals geactiveerde houtskool en zwarte quinoa om je huid te verhelderen. Het laat je huid ook in een oogwenk fris en schoon aanvoelen en maakt je teint selfie-ready. De gezichtsmaskerverzorging is daarom de ideale keuze om je natuurlijke schoonheid tot uitdrukking te brengen.

Hoe gebruik je het Selfie Project Purifying Peel-Off Mask #Shine Like A Star

? Breng het huidverzorgingsmasker in een gelijkmatige laag aan op een schone, droge huid. Vermijd de wenkbrauwen en haarlijn tijdens het aanbrengen. Nadat je het masker 20 tot 30 minuten hebt aangebracht, haal je het voorzichtig van de huid. Begin bij de randen van het masker. Eventuele resten die op de huid achterblijven kun je er gemakkelijk afwassen met lauwwarm water. Het huidverzorgingsmasker is niet geschikt voor de beschadigde huid, huidaandoeningen of overgevoeligheid voor één van de ingrediënten. Het mag ook niet kort na dermatologische behandelingen worden gebruikt.

Breng het masker gelijkmatig aan op de gereinigde huid. De inwerktijd is niet beperkt. Na ongeveer 20-30 minuten is het masker volledig droog en kan het voorzichtig worden verwijderd. Gooi het masker vervolgens weg bij het restafval. Eventuele resten kunnen worden verwijderd met een wattenschijfje gedrenkt in micellair water. Laat de oog- en mondzone, wenkbrauwen, wimpers en haarlijn weg!

Aqua, Polyvinyl Alcohol, Alcohol Denat., Glycerin, Polysorbate 20, Chenopodium Quinoa Seed Extract, Charcoal Powder, Xanthan Gum, PEG 40 Hydrogenated Castor Oil, Polyglycerin-10, Polyglyceryl-10 Myristate, Polyglyceryl-10 Stearate, Citric Acid, Sodium Dehydroacetate, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin, Polyethylene Terephthalate, Polyurethane 11, Parfum, Citronellol, Geraniol, Limonene, Linalool, CI 77000